GS-CarbonPLOT

? 高穩(wěn)定性，鍵合了碳層的固定相
? 對(duì)無(wú)機(jī)氣體和有機(jī)氣體有獨(dú)特的選擇性
? 溫度上限擴(kuò)展至360°C
? GC/MS 的理想選擇——不生成任何顆粒物
? 保留穩(wěn)定性不會(huì)受到水分影響

HP-PLOT 分子篩柱

? 適用于分析永久性氣體的PLOT 柱
? 不到5 分鐘時(shí)間分離O2、N2、CO 和CH4
? 耐用分子篩5? 涂層使基線的尖峰信號(hào)最低，對(duì)多通閥的損害最小
? 分離Ar/O2 時(shí)選用厚膜即無(wú)需進(jìn)行低溫冷卻
? 進(jìn)行常規(guī)空氣監(jiān)測(cè)應(yīng)用，選擇薄膜HP-PLOT 分子篩柱
? 取代GS-分子篩柱
注：分子篩柱會(huì)吸附水，時(shí)間久了會(huì)導(dǎo)致保留時(shí)間變化。我們使用一種先進(jìn)的專利脫活方
法，可使色譜柱快速再生。完全飽和的HP-PLOT 分子篩柱在低于200°C 的條件下7 小時(shí)內(nèi)
再生。